Hidróxido de tetrametilamônio TMAH CAS 75-59-2

O Hidróxido de Tetrametilamônio (TMAH) da BLIT Chemical é um composto de amônio quaternário amplamente utilizado em indústrias como eletrônica, química e fotolitografia. O TMAH é conhecido principalmente por seu papel como base forte e agente de corrosão, especialmente na fabricação de semicondutores para desenvolvimento de fotorresistes e processamento de wafers de silício. Sua alta reatividade o torna ideal para diversas aplicações de síntese orgânica e corrosão.

Especificação:

Aplicativo:

Indústria de semicondutores: Amplamente utilizado para remoção de fotorresistência e gravação de wafers de silício em processos de fotolitografia.

Síntese Orgânica: TMAH atua como uma base forte e catalisador em várias reações orgânicas, promovendo a formação de produtos de reação específicos.

Processamento Químico: Atua como um surfactante e catalisador eficaz em diversas aplicações industriais, incluindo extração por solvente.

Fabricação de eletrônicos: Desempenha um papel fundamental na produção de microchips e outros componentes eletrônicos, auxiliando na gravação de precisão.

Instruções de uso:

Risco ambiental: O TMAH é perigoso para a vida aquática, portanto, o descarte deve ser realizado de acordo com as regulamentações ambientais locais.

Manuseio: Use sempre EPI, incluindo luvas, óculos de proteção e roupas de proteção. Certifique-se de que o ambiente de manuseio seja bem ventilado.

Armazenar: Armazene em um recipiente bem fechado, em local fresco e seco, longe da luz solar direta e de materiais incompatíveis, como ácidos.

Diluição: Ao diluir, sempre adicione TMAH à água, e não o contrário, para evitar reações exotérmicas e respingos.

Pacote:

25 kg/tambor 9,0 mt/20'FCL