無水コハク酸 CAS 108-30-5

BLIT Chemicalの無水コハク酸（SA）は、可塑剤、樹脂の製造、化学合成に使用される重要な工業用化学物質です。コハク酸から誘導され、主にポリマー、コーティング剤、食品添加物の製造に使用されます。また、SAは製薬業界でも利用されており、潤滑剤、塗料、農薬の製造における重要な中間体でもあります。

仕様：

応用：

不飽和ポリエステル樹脂（UPR）の合成：無水コハク酸は、不飽和ポリエステル樹脂の製造における重要なモノマーです。無水マレイン酸（無水マレイン酸）と共重合することで、樹脂に優れた機械的特性と耐腐食性を付与します。ガラス繊維強化プラスチック（FRP）、自動車部品、パイプライン、建築用複合材料などに広く使用されています。

エポキシ樹脂硬化剤：無水物硬化剤として、無水コハク酸は開環反応によりエポキシ基と架橋し、高温および耐薬品性エポキシ樹脂系を形成します。これは、電子パッケージ、絶縁コーティング、接着剤などに使用されます。

界面活性剤およびエステル誘導体: コハク酸モノエステルまたはジエステル (ジメチルコハク酸など) はエステル化反応によって生成され、生分解性のグリーン界面活性剤、潤滑剤、可塑剤の製造に使用されます。

医薬品合成中間体：抗生物質（セファロスポリンなど）、ビタミン（ビタミンA/Eなど）、抗腫瘍薬などの合成に使用され、アシル化反応により活性基が導入されたり、医薬品の溶解性が向上します。

植物成長調整剤：コハク酸誘導体は、作物の代謝を調整し、根の発達とストレス耐性を促進します。

農薬中間体: 効果が高く毒性の低い殺虫剤や除草剤を合成するために使用される有効成分。

リチウムイオン電池電解質添加剤：フィルム形成補助剤として、電極の安定性を向上させ、電池のサイクル寿命を延ばします。

フォトレジスト材料: 高解像度の半導体フォトレジスト配合物では、樹脂の溶解性と反応性を調整するために使用されます。

主要な物理的特性と用途との関連性

高い反応性：無水物基は環を開きやすく、架橋剤や中間体として適しています。

生体適合性: 分解生成物 (コハク酸) は無毒であり、医療/環境保護のニーズを満たしています。

熱安定性: ポリマー材料の加工条件(射出成形、硬化など)を満たします。

使用ガイドライン:

保管: 湿気や熱源を避け、涼しく乾燥した場所に保管してください。

健康被害：吸入や皮膚への接触を避けてください。呼吸器への刺激や皮膚の火傷を引き起こす可能性があります。

反応性：水と反応してコハク酸を生成します。湿気の多い場所では取り扱いに注意してください。

環境安全: 地域の環境規制に従って廃棄してください。

パッケージ：

25kg/ドラムまたは袋 16mt/20'FCL